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Thermal stress reduction of GaAs epitaxial grown on V-groove-patterned Si substrates
发布时间:2024-05-07  点击次数:

所属单位:北京邮电大学

教研室:科研楼334

发表刊物:Chinese Physics B

论文类型:期刊论文

学科门类:工学

一级学科:电子科学与技术*

文献类型:J

是否译文:

发表时间:2020-09-01

收录刊物:SCI

发布期刊链接:https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1674-1056/abb3ed/meta